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            • 低溫制冷循環水溫機
              低溫制冷循環水溫機

              更新時間:2023-09-08

              型號:

              瀏覽量:18563

              低溫制冷循環水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業生產用設備發熱部的冷卻恒溫作用分析儀器:原子吸收、質譜儀、旋光儀。 醫療設備:降溫毯。工業設備及激光設備: 生物制藥。 科學實驗設備:分子泵旋轉蒸發儀、蒸餾器、發酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。
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            • QR-25W智能低溫恒溫槽
              QR-25W智能低溫恒溫槽

              更新時間:2023-09-08

              型號:QR-25W

              瀏覽量:1791

              智能低溫恒溫槽產品說明:采用機械全封閉制冷降溫速度快,控溫精度準。壓縮機高低壓,壓縮機過熱,電流負載等多重保護確保安全可靠。
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            • -40℃~30℃低溫制冷循環器搪瓷反應釜配套設備
              -40℃~30℃低溫制冷循環器搪瓷反應釜配套設備

              更新時間:2023-09-08

              型號:-40℃~30℃

              瀏覽量:3861

              低溫制冷循環器搪瓷反應釜配套設備,低溫制冷循環器采用全密閉設計,低溫運行過程無吸水,保證冷導熱介質的純度,防止冰晶,提供導熱液壽命。高性能循環泵,可保證每天連續24小時運行。
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            • LX-20A制冷循環低溫冷凍機
              LX-20A制冷循環低溫冷凍機

              更新時間:2023-09-08

              型號:LX-20A

              瀏覽量:1648

              制冷循環低溫冷凍機半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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            • LX-145低溫制冷循環器
              LX-145低溫制冷循環器

              更新時間:2023-09-08

              型號:LX-145

              瀏覽量:5710

              低溫制冷循環器使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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            • LX-0250LX-10A循環器
              LX-0250LX-10A循環器

              更新時間:2023-09-08

              型號:LX-0250

              瀏覽量:2374

              LX-10A制冷循環器使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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            • 制冷循環冷水機
              制冷循環冷水機

              更新時間:2023-09-08

              型號:

              瀏覽量:5901

              制冷循環冷水機使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。其他產業用機器發熱部分的冷卻:
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            • LX-70制冷循環器
              LX-70制冷循環器

              更新時間:2023-09-08

              型號:LX-70

              瀏覽量:1338

              LX-70制冷循環器使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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